Vytisknout
1. Chemické procesní inženýrství a simulační metody I
Chemické procesní inženýrství a simulační metody I : teoretické podklady / Tomáš Vaněk, Martin Kohout, Pavlína Basařová. Praha : Vysoká škola chemicko-technologická v Praze, 2021 249 stran [1, z toho volných 1]